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NGK株式会社(旧:日本ガイシ)
【2026-065】成膜技術開発~機能性薄膜の研究開発(真空成膜プロセス) 半導体研究開発
企業名 NGK株式会社(旧:日本ガイシ) 求人名 【2026-065】成膜技術開発~機能性薄膜の研究開発(真空成膜プロセス) 仕事の内容 2026年社名変更(旧日本ガイシ)「何でも技術で変えていく」/セラミックメーカーである当社にて、次世代半導体・次世代通信デバイスを支える成膜技術の開発を担当いただきます。 新規材料・プロセス開発から設備導入、特性評価、製品化まで幅広く携わり、将来事業の創出に貢献していただきます。 ■半導体装置用部材への耐食膜開発、耐食試験技術開発 ■PVD成膜技術開発 ■CVD成膜技術開発 ■上記に関連する低パーティクル化および膜評価技術開発 募集職種 【2026-065】成膜技術開発~機能性薄膜の研究開発(真空成膜プロセス)月給30万円以上
愛知県名古屋市瑞穂区- 年間休日120日以上土日祝休み完全週休2日制在宅OK退職金あり副業・WワークOK時短勤務あり資格取得支援あり英語