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CVD法 (シーブイディーホウ、Chemical Vapor Deposition)

CVD法とは、Chemical Vapor Depositionの略で、化学的気相成長法、または化学蒸着法といわれる。ICや太陽電池の基盤を製造する重要工程の一つで、化学反応を利用して、基板上に単結晶半導体や絶縁膜を成長させる薄膜形成方法のこと。CVD法ではハロゲン化物、硫化物、水素化合物を高温中で気相状態にし、化学反応させた後で薄膜組成を基板上に沈着させる。CVD法に対してPVD(Physical Vapor Deposition)法があり、これは物理気相成長法のことをいう。

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