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薄膜形成法 (ウスマクケイセイホウ)

薄膜形成法とは、固体薄膜化によって高次機能を実現する技術。特にICとして知られている二次元構造が疑似平面状に重層化された半導体回路素子を作製するプロセスとして、薄膜形成法の技術的位置付けは飛躍的に高まった。薄膜形成法は主に気相成長法があり、物理的方法(PVD)と化学的方法(CVD)に分かれる。PVDには真空蒸着法やスパッタ法等があり、CVDにはプラズマCVD法や光CVD法等がある。電子部品製品、バイオ、マイクロマシニング等の先端技術開発分野に欠かせない技術である。

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